蒸发材料是薄膜沉积的重要组成部分，使得为各类行业制造高质量涂层成为可能。从半导体到光学器件，这些材料在确保可靠性和高效性能方面发挥着关键作用。我们专注于提供针对半导体、封装、光学薄膜等多种应用需求的优质蒸发材料。
什么是蒸发材料？
蒸发材料是用于物理气相沉积（PVD）技术的物质，如热蒸发和电子束蒸发。在这些工艺中，材料在真空腔室中加热直到汽化，形成基底上一层薄且均匀的涂层。
蒸发过程
1. 热蒸发：
材料通过电阻加热元件进行加热。非常适合需要低基底温度的应用。
2. 电子束蒸发：
高能电子束精确加热材料。实现高沉积速率和优越的胶片纯度。
与其他沉积方法（如溅射）相比，蒸发具有更快沉积速率、较低基底加热以及更好的薄膜质量等优势。
蒸发材料的类型
我们提供多种蒸发材料及衬底材料，以满足行业多样化需求：
1. 纯金属
如：黄金（Au）、白银(Ag)、铝 (Al)、钛（Ti）、铜(Cu)等。
2. 合金
如：镍铬(NiCr)、铝合金(AlCu, AlSi等)等；
3. 陶瓷
如：氧化铝（Al₂O₃）、锆（ZrO₂）、二氧化硅（SiO₂）等
4. 蒸发衬底材料：
如：Mo坩埚、Cu坩埚、石墨坩埚等。